Na początku lutego br. pracownicy Centrum Badań Materiałowych i Mechatroniki Instytutu Transportu Samochodowego (dr inż. Małgorzata Kalisz, mgr inż. Magdalena Szymańska, mgr Marcin Grobelny) dokonali wstępnego odbioru zakupionej aparatury technologicznej - reaktora do chemicznego osadzania z fazy gazowej CVD (Chemical Vapor Deposition) przeznaczonego do produkcji grafenu oraz reaktora LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) do osadzania cienkich warstw dielektrycznych. Odbiór odbył się w siedzibie producenta aparatury w firmie First Nano/CVD Materials Corporation w Nowym Jorku.

Nowa aparatura umożliwi między innymi wytwarzanie:

• warstw grafenowych w formie jedno i wielowarstwowej,
• nanorurek węglowych,
• warstw DLC (Diamond-like Carbon),
• warstw na bazie krzemu, np.: SiN, SiOxNy, SiN.

Wyposażenie laboratorium będzie unikalne w skali europejskiej, a jako drugie w Polsce umożliwi produkcję grafenu.

Otwarcie laboratoriom planowane jest na lipiec 2014 r.

***

Grafen to płaska struktura złożona z pojedynczych atomów węgla, połączonych w układ sześciokątny. Wysokiej jakości grafen charakteryzuje się dużą elastycznością, wytrzymałością i niskim ciężarem właściwym. Jest prawie przezroczysty i stanowi doskonały przewodnik ciepła i elektryczności.